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  • 真空等離子體涂覆薄膜沉積設備Pluto-MC利用等離子體改性時,將試樣置于特定的離子處理裝置中,通過高能態的等離子轟擊試樣的表面,將能量傳遞給試樣表層的分子,使試樣發生熱蝕、交聯、降解和氧化反應,并使試樣表面發生C-F鍵和C-C鍵的斷裂,產生大量自由基或引進某些極性基團,從而優化試樣表面的性能。

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    產品價格:面議
    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2026-01-20
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